neaSNOMはAFMユニットと赤外イメージング&分光ユニットから構成され、10nmに迫る高分解能でのイメージングと分光測定を実現できます。
独自の特許技術(Background suppression technique ※)によりプローブやサンプルからの反射や散乱光の影響を抑制し、100%に近い再現性で近接場測定を可能にします。
また、ナノスケールでのプラズモンの表面伝搬状況や半導体デバイス中のドーピング領域の可視化が可能です。
※高調波信号を数値計算・解析することによりバックグランド(ノイズ部)の信号を除去し、局所的な信号を取得する手法。
スキャンエリア | 100×100μm(クローズドループ) |
サンプルステージ | モータ駆動 最大移動幅 X=60mm、Y=15mm、Z=6mm(AFMヘッド側 X=30mm、Y=3mm、Z=4mm) |
ノイズレベル | <0.2nm RMS(1.5−150Hz) |
光学顕微鏡 | 水平分解能0.8μm、視野角0.7mm 長作動距離対物レンズ(WD=20mm) |
CCDカメラ | 5Mpix ハイスピード・デジタルイメージング |
励起波長 | 可視、赤外およびテラヘルツまで ※分光性能は励起波長、測定環境による ※同時に2基の光源を搭載可能 |
AFMプローブ | neaSNOM専用プローブ(標準/高感度)をご用意。 ※市販プローブの利用も可 |
neaSNOM顕微鏡プラットフォームは、
以下の基本コンポーネントが含まれています
各光源に合わせた検出モジュールを選択
様々なオプションを提供します
neaspecは保証された性能と認定され、
すぐに使用できる光源システムを幅広く
提供しています
集光されたレーザがAFMチップ先端を照射。
AFMチップ先端ではチップ先端径(約10nm)と同程度のナノフォーカスを
生み出す。
チップとサンプル間に働く近接場相互作用が弾性散乱光を変調。
AFMチップをサンプル表面上で走査することで分解能10nmの光学マッピングを取得。